第246章制裁?那就搞X光刻机!
【FBI突然出动,抓住了潜伏其内十年的卧底。】
【FBI抓住一名卧底,疑似华国人?】
【近日FBI抓住一名卧底,在庭审前日晚畏罪自杀】
【卧底自杀?还是另有原因!】
……
一条条相关的新闻,开始争抢起了各种头条。
这样的新闻,不得不引起人们的注意,卧底?
还有卧底畏罪自杀?
对于这样的消息,每个看到的人都感到震惊。
华国国内,在网络上讨论的人也很多,都不知道这个卧底是否真的是他们的人。
毕竟这些都只是从国外传出的消息,没有人知道详情。
而相比较这个政治上的事情,对于半导体界人来说,却更加关注另外一条消息。
国外的制裁技术又加上了几条,一条,准激光发射器。
这个东西,是光刻机光源中十分必要的一个部件。
其主要就是利用二氧化碳激光器发射出极高能的激光,输出超过30kW平均功率的激光束,脉冲峰值最高可达几兆瓦,然后如此高能的激光,击打在不断从上方滴下的锡珠上,然后使其发射出波长为的极紫外光。
而想要在二氧化碳激光器上实现如此高的功率,普通的技术完全行不通,而华国当前的二氧化碳激光器在功率上并不能达到这种要求,而需要知道的是,这个功率,最终影响的就是EUV光源的实际功率。
如果EUV光源没有足够大的功率,对他们的影响,十分之大。
此外,还有其他几种EUV光源中较为重要的传感器也遭到了制裁。
这样一来,他们再想要研发光刻机,就必须先在这些方面实现突破,否则光源搞不出来,全部都白搭。
一时之间,华国半导体界,又掀起了一片唱衰的声音。
要是继续一个一个地搞下去,他们得花多少时间?
到时候国外说不定早就找到了能够突破现有光刻机的技术了。
而除了这些和光刻机技术有关的东西之外,国外又在原材料之一的光掩膜版上面进行了制裁,光掩膜版是光刻流程中同样十分重要的东西,只有通过掩膜版,极紫外光才能实现直接光刻。
而现在主流掩膜版中,都是以石英作为材料的,而这次主要制裁项目,就是这种石英材料,而这种石英材料的生产工艺难度十分高,国内一直都需要进口国外的。
而现在他们买不了石英材料了,就等于说国内掩膜版厂商,全部都直接废了。
这几招下来,国内半导体产业链便再一次遭到了重创。
……
“妈的,那帮洋鬼子,肯定是看我们又搞出了顶级的镜面抛光技术后,想出来的坏事情,真是太不要脸了!”
定光研究所,林晓的办公室中,罗明愤愤不平地说道。
但林晓却只是静静地坐在自己的办公桌前,
请收藏:https://m.bqgpa.cc
(温馨提示:请关闭畅读或阅读模式,否则内容无法正常显示)