第242章八月:产量提高倍
“呼~”
脑海中缓了一会儿后,林晓便感觉自己的思维重新恢复了清晰。
这一次提高的大脑开发度还不到本来的十分之一,对他本身的负担并不大,只是稍微有一些头晕罢了,等了一会儿后,这种眩晕感便逐渐消退了。
此时此刻,他再次抬头看向周围的环境,便感到周围的一切仿佛都在他的把控之中,甚至他能够将整个房间直接建立成为了一个3D模型,然后放在自己的大脑中,并且甚至能够直接对这个模型进行改变。
此外,他甚至感觉自己现在能够轻松地对八位数数字进行质数分解。
同时,他感觉自己对于物理的理解似乎也更近了一步。
本来,他因为之前提出了多维场论,而从系统那里得到了一个【物理大师光环】,这个光环对他的加成还是很高的,这也是为什么他有自信对光刻机来动手。
而现在他物理学又提升到了5级,这让他更有信心将这个时间缩短了。
“甚至……EUV光刻机也不是什么问题,似乎X光刻机,也能行?”
林晓的脑海中忽然浮现出了这个想法。
X光刻机,指的便是用X光作为光源的光刻机。
X光的波长比极紫外光更短,能够更加容易地去生产先进制程芯片。
并且这种光刻机有一种优点,那就是它的光源是直接照射在芯片底上的。
这种曝光方式便叫做直写式。
而EUV光刻机的光源中,EUV光源是经过十几块镜片的各种折射,最后通过掩膜版上面的图案,以投影的方式在芯片上形成芯片的。
这也就是说,X光刻机不需要光掩膜版就能使用,同时它对透镜系统的要求很低,仅仅只对透镜表面光滑度有一点要求而已。
此外,EUV光源在经过十几次光学镜片的折射后,原有光源的能量也会大大遭到削弱,原来的100%,到最后能量可能只会剩下不到3%,这也是为什么对EUV光源的要求就是功率足够强,不然的话,华国也不可能在光源上实现不了突破,毕竟方法都知道,不可能造都造不出来。
而X光刻机就不同了,因为是直写式,不需要经过镜片折射,所以根本不用担心光源功率不足的问题,反倒要担心的是曝光时间稍微长了一点,反倒会影响到最终的效果。
当然,X光优点很多,但同样也有缺点。
那就是相比较EUV光刻机来说,光刻效率比较低,在实现大规模生产上比较困难,这也是为什么X光刻机没有占据主流的原因,虽然到现在也仍然再用,不过并不是那么引起人们的关心。
不过,这个问题林晓自然是考虑到了,而他觉得X光刻机能搞,便是因为他刚才闪过的灵感,让他有了一个实现X光刻机大规模生产的方法。
那就
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